सामान्य तापमान उच्च परिशुद्धता लोहे के ऑक्साइड ठीक desulfurizer

WH-705 उच्च कुशल ठोस डीसल्फराइज़र एक नई कंकाल संरचना सामग्री का उपयोग करता है और इसमें सक्रिय घटक के रूप में हाइड्रॉक्सिल समूह आयरन ऑक्साइड (γ-FeOOH) होता है। HT-705 डीसल्फराइज़र को विशेष तकनीक द्वारा उत्पादित किया गया था और इसमें तेज़ डीसल्फराइजेशन गति, उच्च सल्फर क्षमता और उच्च प्रभाव प्रतिरोध है। इसका मुख्य रूप से प्राकृतिक गैस, तेल क्षेत्र संबद्ध गैस, सिनगैस, मीथेन, कोयला गैस आदि से H₂S को हटाने के लिए उपयोग किया जाता है। यह विशेष रूप से इस्पात बनाने वाली गैस के डीसल्फराइजेशन के लिए उपयुक्त है। इसकी सल्फाइड क्षमता 30% से अधिक तक पहुँच सकती है। कई इस्पात मिलें इसका उपयोग कोक ओवन गैस से H₂S को हटाने के लिए करती हैं जैसे कि चाइना बाओवू स्टील ग्रुप, बीजिंग शौगौंग कंपनी लिमिटेड। इसका पोस्ट-प्रोसेसिंग भी बहुत सुविधाजनक है।

लाभ

सरल उपकरण,

सुविधाजनक संचालन,

उच्च शुद्धिकरण,

कम बिस्तर प्रतिरोध,

मजबूत अनुकूलन क्षमता,

तेज़ प्रतिक्रिया गति,

उच्च सल्फर क्षमता

कार्य सिद्धांत

आयरन ऑक्साइड डीसल्फराइज़र कमजोर रूप से क्षारीय होता है, और सामान्य तापमान पर H₂S के लिए एक मजबूत आकर्षण होता है।

डीसल्फराइजेशन                                          पुनर्जनन

Fe₂S₃·H₂0+3H₂S=Fe₂S₃·H₂0 +3H₂0           Fe₂S₃·H₂0+3/20₂=Fe₂0₃·H₂0+3S

Fe₂S₃·H₂0+3H₂S+2FeS+S+4H₂0               4FeS +30₂+6H₂0=2Fe₂0₃·H₂0+4H₂0+4S

संचालन की स्थितियाँ

1. स्पेस वेलोसिटी: गैस ≤3000h^-1

2. तापमान: ≤60°C (20-40°C सबसे अच्छा)

3. दबाव: ≤10Mpa

4. अनुशंसित बिस्तर ऊंचाई-व्यास अनुपात: 1.0~3.0

5. O₂:H₂S≥3 (v/v)

प्रदर्शन सूचकांक

1. डीसल्फराइजेशन परिशुद्धता: ≤0.1ppm (v/v)

2. सल्फाइड क्षमता: ≥30% (wt, 30°C, गैर-कार्बन डाइऑक्साइड गैस)

3. संतृप्त सल्फर क्षमता≥600mg/g

मुख्य विशेषताएं

हमारी कंपनी के आयरन ऑक्साइड डीसल्फराइज़र की उत्पादन प्रक्रिया एक अद्वितीय रासायनिक संश्लेषण और रासायनिक छिद्र बनाने की प्रक्रिया को अपनाती है, और उत्पाद का थोक घनत्व छोटा होता है, छिद्र मात्रा बड़ी होती है, सूक्ष्म छिद्र विशेष रूप से विकसित होते हैं, और विशिष्ट सतह क्षेत्र बड़ा होता है।

1) उच्च डीसल्फराइजेशन सटीकता

प्रयोगशाला मूल्यांकन उपकरण का पता लगाता है: जब डीसल्फराइजेशन इनलेट की H₂S सामग्री 10000mg/m³ है और स्पेस स्पीड 1000 h^-1 है, तो डीसल्फराइजेशन आउटलेट की H₂S सामग्री ≤ 0.03mg/m³ है।

2) तेज़ प्रतिक्रिया गति

प्रयोगशाला मूल्यांकन उपकरण परीक्षण: जब डीसल्फराइजेशन इनलेट की H₂S सामग्री 10000mg/m³ है और स्पेस स्पीड 5000 h^-1 है, तो डीसल्फराइजेशन आउटलेट की H₂S सामग्री ≤ 1.0mg/m³ है। यह पतले डीसल्फराइजेशन बिस्तर और गैस और डीसल्फराइज़र के बीच कम संपर्क समय की कार्यशील स्थिति में उपयोग किए जाने पर अद्वितीय प्रदर्शन रखता है।

3) बड़ी कार्य सल्फर क्षमता

डीसल्फराइजेशन के सिद्धांत में, दो मुख्य प्रतिक्रियाएं लगभग तुल्यकालिक होती हैं, और H2S अंततः मौलिक सल्फर में बदल जाता है, जिसे सूक्ष्म छिद्रों में रखा जाता है। डीसल्फराइजेशन के सिद्धांत से यह देखा जा सकता है:

·डीसल्फराइज़र वास्तव में एक उत्प्रेरक है, और आयरन ऑक्साइड लगातार डीसल्फराइजेशन और इस तरह की चक्रीय डीसल्फराइजेशन प्रक्रिया में पुनर्जीवित होता है।

·डीसल्फराइज़र में विकसित सूक्ष्म छिद्र होते हैं, और गैस डीसल्फराइजेशन प्रतिक्रिया के लिए डीसल्फराइज़र के सबसे भीतरी भाग में प्रवेश कर सकती है, जो डीसल्फराइज़र की उपयोग दक्षता में सुधार करता है।

उपरोक्त दो बिंदु डीसल्फराइज़र की सल्फर क्षमता और सेवा जीवन को प्रभावी ढंग से और बहुत सुधार सकते हैं।