सामान्य तापमान उच्च परिशुद्धता लोहे के ऑक्साइड ठीक desulfurizer

उच्च दक्षता वाले ठोस desulfurizer WH-705 में एक नई कंकाल संरचना सामग्री का उपयोग किया गया है और इसमें सक्रिय संरचना के रूप में हाइड्रॉक्सिल समूह आयरन ऑक्साइड (γ-FeOOH) शामिल है।एचटी-705 डिसल्फराइजर विशेष तकनीक द्वारा निर्मित किया गया है और इसमें तेजी से डिसल्फराइजेशन की गति है, उच्च सल्फर क्षमता और उच्च प्रभाव प्रतिरोध। यह मुख्य रूप से एच को हटाने के लिए प्रयोग किया जाता है₂यह विशेष रूप से इस्पात निर्माण गैस के desulphurization के लिए उपयुक्त है। इसकी सल्फाइड क्षमता 30% से अधिक तक पहुंच सकती है।कई इस्पात कारखानों एच को हटाने के लिए इसका उपयोग₂S को कोक ओवन गैस जैसे चाइना बाओवू स्टील ग्रुप, बीजिंग शोगंग कंपनी लिमिटेड से प्राप्त किया जाता है।

लाभ

सरल उपकरण,

सुविधाजनक संचालन,

उच्च शुद्धता,

कम बिस्तर प्रतिरोध,

मजबूत अनुकूलन क्षमता,

तीव्र प्रतिक्रिया गति,

उच्च सल्फर क्षमता

कार्य सिद्धांत

लोहे के ऑक्साइड desulfurizer कमजोर क्षारीय है, और सामान्य तापमान पर H2S के लिए एक मजबूत आत्मीयता है।

सल्फ़ुरीकरण                                         पुनर्जन्म

Fe2S₃·H20+3H2S=Fe2S₃·H20 + 3H20 Fe2S₃·H20+3/202=Fe20₃·H20+3S

Fe2S₃·H20+3H2S+2FeS+S+4H20 4FeS +302+6H20=2Fe20₃·H20+4H20+4S

परिचालन की शर्तें

1अंतरिक्ष गतिः गैस ≤3000h^-1

2. तापमानः ≤60°C ((20-40°C सबसे अच्छा)

3. दबावः ≤10Mpa

4. बिस्तर की ऊंचाई-व्यास अनुपातः 1.0~3.0

5..₂H:₂S≥3 (v/v)

प्रदर्शन सूचकांक

1निर्ज्वलन परिशुद्धताः ≤0.1ppm (v/v)

2सल्फाइड क्षमताः ≥ 30% (घन, 30°C, गैर कार्बन डाइऑक्साइड गैस)

3संतृप्त सल्फर क्षमता ≥ 600mg/g

प्रमुख विशेषताएं

हमारी कंपनी के लोहे के ऑक्साइड desulfurizer की उत्पादन प्रक्रिया एक अद्वितीय रासायनिक संश्लेषण और रासायनिक छिद्र बनाने की प्रक्रिया को अपनाता है, और उत्पाद का थोक घनत्व छोटा है,छिद्र की मात्रा बड़ी है, सूक्ष्म छिद्र विशेष रूप से विकसित होते हैं, और विशिष्ट सतह का क्षेत्रफल बड़ा होता है।

1) उच्च निर्ज्वलन सटीकता

प्रयोगशाला मूल्यांकन उपकरण का पता लगाता हैः जब एच₂S सामग्री desulfurization इनलेट 10000mg/m है³और अंतरिक्ष गति 1000 h है^-1, एच₂निर्ज्वलन आउटलेट का S सामग्री ≤ 0.03mg/m है³.

2) त्वरित प्रतिक्रिया गति

प्रयोगशाला मूल्यांकन उपकरण परीक्षणः जब एच₂S सामग्री desulfurization इनलेट 10000mg/m है³और अंतरिक्ष गति 5000 h है^-1, एच₂निर्ज्वलन आउटलेट का S सामग्री ≤ 1.0mg/m है³यह पतले desulfurizer बिस्तर और गैस और desulfurizer के बीच कम संपर्क समय की कार्य स्थिति में इस्तेमाल किया जाता है जब अद्वितीय प्रदर्शन है।

3) बड़ी कार्यशील सल्फर क्षमता

निर्ज्वलन के सिद्धांत में, दो मुख्य प्रतिक्रियाएं लगभग सिंक्रोनस होती हैं, और H2S अंततः तत्व सल्फर में बदल जाता है, जिसे माइक्रोपोरेस में रखा जाता है।यह निर्ज्वलन के सिद्धांत से देखा जा सकता है:

·डेसल्फ्यूराइज़र वास्तव में एक उत्प्रेरक है, और लोहे के ऑक्साइड को इस तरह के एक परिपत्र डिसल्फ्यूराइजेशन प्रक्रिया में लगातार डेसल्फ्यूराइज किया जाता है और पुनर्जीवित किया जाता है।

·डेसल्फराइज़र में माइक्रोपोरेस विकसित हुए हैं, और गैस डेसल्फराइज़र के आंतरिक भाग में प्रवेश कर सकती है।जो desulfurizer के उपयोग की दक्षता में सुधार करता है.

उपरोक्त दो बिंदु प्रभावी रूप से और काफी हद तक सल्फर क्षमता और desulfurizer के सेवा जीवन में सुधार कर सकते हैं।